效果展示

丰富的工业控件

• 可视化拖拽编辑，配置非常方便。

辅助功能高效设计

• 配置化功能增添可视化设计工具，设计更高效。

多机械手流片

• 灵活的调度配置，满足流片要求

应用场景广泛

广泛应用于泛半导体设备、非标自动化设备及其他工业控制领域。具体应用实例如下：

以下为可公开的典型应用设备：

• 湿法去胶清洗设备：用于半导体制造中的清洗环节。

• 匀胶显影设备：用于光刻工艺前的涂胶及显影。

• PECVD设备：等离子体增强化学气相沉积设备，用于薄膜沉积。

• MOCVD设备：金属有机物化学气相沉积设备，主要用于化合物半导体材料生长。

• PCB热熔设备：用于印刷电路板制造中的热熔工艺。

• 在线检测设备：用于生产线上的自动化质量检测。

以下为保密要求，暂不展示图片的典型应用设备：

• 激光开槽设备
• 刀轮切割设备
• 隐型改质切割设备
• CMP设备（化学机械抛光设备）
• 准分子巨量转移设备